公开/公告号CN107908071B
专利类型发明专利
公开/公告日2021-01-29
原文格式PDF
申请/专利权人 上海集成电路研发中心有限公司;
申请/专利号CN201711216779.0
申请日2017-11-28
分类号G03F1/36(20120101);
代理机构31275 上海天辰知识产权代理事务所(特殊普通合伙);
代理人吴世华;陈慧弘
地址 201210 上海市浦东新区张江高斯路497号
入库时间 2022-08-23 11:30:34
机译: 提供用于光学邻近校正的初始偏差值的方法以及基于初始偏差值的具有光学邻近校正的掩膜产生方法
机译: 提供用于光学邻近校正的初始偏差值的方法以及基于初始偏差值的具有光学邻近校正的掩码制造方法
机译: 一种提高基于模型的光学邻近校正精度的方法