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杜惊雷; 黄晓阳;
四川大学物理系;
光学邻近效应; 校正; 散射; 光场分布;
机译:基于光学邻近效应校正的受限光学邻近效应校正模式生成-基于模型的光学邻近效应校正中的可制造性规则设计
机译:通过10nm节点工艺的混合光学邻近效应校正建模和收缩校正技术提高光学邻近效应校正模型的准确性
机译:通过电子束光刻中的图案辅助邻近效应校正来控制区域形状,以提高X射线光学器件的效率
机译:完全基于模型的方法论,可同时通过改进的图案转移保真度和工艺窗口来校正EUV掩模的阴影和光学邻近效应
机译:使用线性编程技术实施电子束邻近效应校正,以制造非对称领结天线。
机译:基于光学缓冲琼斯矩阵的多功能光学相干层析成像具有偏振模色散校正
机译:基于表面等离子体的非对称纳米结构光场分布研究
机译:基于光学负反馈环校正大尺度光学畸变的动态非线性光学校正器的可行性研究
机译:光学邻近效应校正方法,光学邻近效应校正装置,光学邻近效应校正程序,制造半导体装置的方法,图案设计限制开发方法和光学邻近效应校正的计算方法
机译:光学邻近效应校正方法和装置,光学邻近效应验证方法和装置,曝光掩模的制造方法,进一步的光学邻近效应校正程序和光学邻近效应验证程序
机译:光学邻近效应校正方法和装置,光学邻近效应验证方法和装置,制造曝光掩模的方法以及光学邻近效应校正程序和光学邻近效应验证程序
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