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一种基于深度学习的用于超紫外的光学邻近校正方法

摘要

本发明提供一种基于深度学习的用于超紫外的光学邻近校正方法,包括:正演模块和反演模块两部分;其中,正演模块用于快速准确地将掩膜映射到堆叠上方平面对应的近远场,反演模块用于快速准确地将目标成像映射到校正后的掩膜。本发明提供的方法与传统的全波模拟相比,正演模块可以大大提高计算效率,包括所需的运行时间和内存;同时,与耗时的迭代OPC方法不同的是利用训练好的反演模块输入目标成像即可得到修正后的掩膜。

著录项

  • 公开/公告号CN113238460B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2022-02-11

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 厦门大学;

    申请/专利号CN202110412412.6

  • 申请日2021-04-16

  • 分类号G03F7/20(20060101);G06N3/04(20060101);G06N3/08(20060101);

  • 代理机构35204 厦门市首创君合专利事务所有限公司;

  • 代理人张松亭;李艾华

  • 地址 361000 福建省厦门市思明南路422号

  • 入库时间 2022-08-23 13:05:34

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