公开/公告号CN110699669B
专利类型发明专利
公开/公告日2020-09-22
原文格式PDF
申请/专利权人 清华大学;
申请/专利号CN201910973262.9
申请日2019-10-14
分类号C23C16/455(20060101);C23C16/52(20060101);G01F1/708(20060101);G01N30/02(20060101);G01N30/20(20060101);
代理机构11327 北京鸿元知识产权代理有限公司;
代理人邸更岩
地址 100084 北京市海淀区北京市100084信箱82分箱清华大学专利办公室
入库时间 2022-08-23 11:14:44
机译: 用于化学气相沉积的化合物以及用于钌膜或钌化合物膜的化学气相沉积方法,能够提高稳定性和蒸气压
机译: 化学气相沉积的支持者,能够防止因不均匀加热而生长半导体的物质,一种化学气相沉积设备,以及一种使用化学气相沉积设备的加热方法
机译: 通过等离子体化学气相沉积形成沉积膜的方法和通过等离子体化学气相沉积形成沉积膜的设备