机译:通过等离子体增强化学气相沉积法沉积的纳米钛膜的特性,以及通过物理气相沉积法将膜的性能与该膜进行比较
Minist Sci & Technol, Gwacheon City 427715, South Korea;
Kunsan Natl Univ, Dept Mat Sci & Engn, Kunsan 573701, South Korea;
SILICIDE FORMATION; OHMIC CONTACTS; TISI2; COSI2; TECHNOLOGY; SI;
机译:在低基板温度下通过等离子体增强化学气相沉积和热线化学气相沉积沉积的薄膜的机械和压阻特性
机译:等离子体功率和沉积压力对等离子体增强化学气相沉积法沉积低介电常数等离子体聚合环己烷薄膜性能的影响
机译:在In0.82Al0.18As上通过电感耦合等离子体化学气相沉积和等离子体增强化学气相沉积生长的氮化硅膜的界面特性
机译:用于晶体光伏太阳能电池的柔性多晶金属基板上的异质外延硅薄膜:物理气相沉积与等离子体增强化学气相沉积之间的比较
机译:通过铝的物理气相沉积和等离子体增强的三甲基硅烷化学气相沉积产生的薄膜的原位X射线光电子能谱分析。
机译:射频等离子体增强化学气相沉积(RF PECVD)反应器中样品高度对氮化硅薄膜光学性能和沉积速率的影响
机译:通过等离子体增强化学气相沉积法沉积的聚萜烯薄膜的光学和化学性质
机译:通过等离子体增强化学气相沉积沉积的无定形碳膜作为平面化层。