循环氩离子轰击对等离子体增强休学气相沉积(PECVD)TiN膜耐腐蚀性能的影响

摘要

该研究设计了循环氩离子轰击-PECVD TiN工艺。运用扫描电子显微镜、能谱仪、恒电位仪等仪器设备，研究循环氩离子轰击对PECVD TiN膜耐腐蚀性能的影响及作用机理。结果表明：循环氩离子轰击强化了沉积中的反应，提高了TiN膜的致密性，细化了TiN晶粒，养活了膜内缺陷，降低了膜层中的残余氯含量，从而提高了膜层在硝酸和硫酸中的耐腐蚀性能。