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碳化硅肖特基器件的外延边端及制造组合该边端的碳化硅器件的方法

摘要

通过包含在肖特基整流器的电压阻挡层上并邻近碳化硅肖特基整流器的肖特基接触处的一碳化硅外延区提供碳化硅肖特基整流器的边端。碳化硅外延层可以有一厚度和一掺杂水平使得在阻挡层表面掺杂的基础上提供碳化硅外延区内的电荷。碳化硅外延区可以形成一与肖特基接触的非欧姆接触。碳化硅外延区可以有一约1.5至约5倍阻挡层厚度的宽度。还提供了有这种边端的肖特基整流器以及制造这种边端和这种整流器的方法。这种方法还可以有助于提高所生产器件的性能并可简化制造工艺。

著录项

  • 公开/公告号CN100370627C

    专利类型发明授权

  • 公开/公告日2008-02-20

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 克里公司;

    申请/专利号CN01819560.1

  • 发明设计人 R·辛;

    申请日2001-11-06

  • 分类号

  • 代理机构中国专利代理(香港)有限公司;

  • 代理人吴立明

  • 地址 美国北卡罗来纳州

  • 入库时间 2022-08-23 09:00:17

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2008-02-20

    授权

    授权

  • 2005-10-26

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2005-08-31

    公开

    公开

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