在异质衬底上制造半导体结构的方法

摘要

公开了一种用于在具有多深宽比掩模的异质衬底上形成无缺陷半导体结构的技术。多深宽比掩模包括形成在衬底上的第一层、第二层和第三层。第二层具有比分别在第一层中的第一开口和第三层中的第三开口要宽的第二开口。全部三个开口以公共中心轴为中心。从衬底的顶部表面生长半导体材料，并且横向地生长到第二开口内的第一层的顶部表面上。通过将第三层用作为蚀刻掩模，来蚀刻被布置在第三开口内并且位于第三开口的垂直下方的半导体材料，以使得横向地溢出到第一层的顶部表面上的保留材料形成保留结构。