公开/公告号CN103811544B
专利类型发明专利
公开/公告日2016-11-30
原文格式PDF
申请/专利权人 上海华虹宏力半导体制造有限公司;
申请/专利号CN201210437584.X
申请日2012-11-06
分类号
代理机构上海浦一知识产权代理有限公司;
代理人刘昌荣
地址 201203 上海市浦东新区张江高科技园区祖冲之路1399号
入库时间 2022-08-23 09:49:24
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2016-11-30
授权
授权
2014-06-25
实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 29/78 申请日:20121106
实质审查的生效
2014-05-21
公开
公开
机译: 横向双扩散金属氧化物半导体(LDMOS)器件具有增强的漂移区,漂移区具有改进的 on Sub>面积积
机译: 使用偏置纵向场板,LDMOS晶体管和制造LDMOS晶体管的方法的LDMOS晶体管的漂移区域场控制。
机译: 使用偏置纵向场板,LDMOS晶体管和制造LDMOS晶体管的方法对LDMOS晶体管进行漂移区域场控制