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用于等离子体化学气相沉积装置的控制系统

摘要

本实用新型涉及工控机控制技术,公开了一种用于等离子体化学气相沉积装置的控制系统,包括上位机和多个下位工控机,上位机和下位工控机之间通过交换机连接;上位机与送料装置相连,控制送料装置是否出料及出料量;下位工控机与推拉舟和气相沉积装置内的环境控制仪器相连,控制推拉舟的运动和气相沉积装置内的环境参数。本实用新型采用一台带显示器的工控机作为上位机,通过交换机与多个不带显示器的下位工控机相连接,由上位机向下位工控机传送控制数据,实现对被控制设备的控制操作,下位工控机将被控制设备的工作状况实时反馈给上位机,由此实现数据交互和控制。该控制系统结构简单,自动化能力强,操作方便,使用和维护成本低。

著录项

  • 公开/公告号CN202272949U

    专利类型实用新型

  • 公开/公告日2012-06-13

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 北京七星华创电子股份有限公司;

    申请/专利号CN201120370676.1

  • 申请日2011-09-29

  • 分类号C23C16/52(20060101);

  • 代理机构11002 北京路浩知识产权代理有限公司;

  • 代理人韩国胜;王莹

  • 地址 100016 北京市朝阳区酒仙桥东路1号M2号楼2层

  • 入库时间 2022-08-21 23:30:10

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2018-04-03

    专利权的转移 IPC(主分类):C23C16/52 登记生效日:20180314 变更前: 变更后: 申请日:20110929

    专利申请权、专利权的转移

  • 2018-04-03

    专利权人的姓名或者名称、地址的变更 IPC(主分类):C23C16/52 变更前: 变更后: 申请日:20110929

    专利权人的姓名或者名称、地址的变更

  • 2014-10-22

    专利实施许可合同备案的生效 IPC(主分类):C23C16/52 合同备案号:2014990000666 让与人:北京七星华创电子股份有限公司 受让人:北京飞行博达电子有限公司 实用新型名称:用于等离子体化学气相沉积装置的控制系统 授权公告日:20120613 许可种类:独占许可 备案日期:20140819 申请日:20110929

    专利实施许可合同备案的生效、变更及注销

  • 2012-06-13

    授权

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