机译:通过表面波等离子体进行氮化硅膜的化学气相沉积,用于AlGaN / GaN装置的表面钝化
机译:通过表面波等离子体增强化学气相沉积的硼 - 氮比对氮化硼膜漏电流特性的影响
机译:通过等离子体增强化学气相沉积双层富硅氧氮化硅和氮化硅的表面钝化结晶硅
机译:在In0.82Al0.18As上通过电感耦合等离子体化学气相沉积和等离子体增强化学气相沉积生长的氮化硅膜的界面特性
机译:通过表面波等离子体进行氮化硅膜的化学气相沉积,用于AlGaN / GaN装置的表面钝化
机译:在AlGaN / GaN高电子迁移率晶体管上进行等离子增强化学气相沉积的氮化硅钝化的热稳定性。
机译:射频等离子体增强化学气相沉积(RF PECVD)反应器中样品高度对氮化硅薄膜光学性能和沉积速率的影响
机译:“有效的GaN表面钝化等离子体增强硅氧化硅化学气相沉积”的附录