法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2008-01-02
专利权的终止(未缴年费专利权终止)
专利权的终止(未缴年费专利权终止)
2003-12-31
授权
授权
2001-04-18
公开
公开
2001-03-21
实质审查请求的生效
实质审查请求的生效
机译: 具有树脂板的金属掩膜,气相沉积掩膜,气相沉积掩膜装置的制造方法以及有机半导体元件的制造方法
机译: 彩色阴极射线管掩膜板的安装-将掩膜板放置在载体元件的上表面上,使中心部分位于载体上,相对于框架定位板,并将掩膜板焊接到支撑元件上。
机译: 制备光掩膜的光掩膜方法和使用光掩膜的图案制作方法