一种基于泰伯子像的光刻系统并由期望图案设计掩膜板的方法

摘要

提出一种基于泰伯效应利用泰伯子像实现光刻,并利用反演光刻技术由期望图案设计掩膜板的方 法。泰伯子像是在分数倍泰伯距离上出现的一种像元倍增且呈棋盘状分布的自成像。根据菲涅耳衍射理 论分析可知,泰伯子像是两种泰伯像在同一平面的叠加,像元数量是两种泰伯像像元之和,即像元倍 增,由于叠加的两种泰伯像相位差 180°,呈现出棋盘状分布的现象。基于泰伯子像的成像现象,研究一 种掩膜板设计方法,针对一些特定的工艺窗口,将其转化为期望图案,由期望图案利用反演光刻技术设 计掩膜板图案。将期望的图案作为泰伯子像的结果利用反演算法推算出掩膜板的图案分布以及参数。