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董启明; 郭小伟;
电子科技大学光电信息学院;
干涉光刻; 表面等离子体激元; 克莱舒曼结构;
机译:基于残留纳米掩膜的多种多样的纳米结构林的制造,该掩膜是通过氧等离子体去除光刻胶而合成的
机译:使用离子束光刻技术对金刚石表面进行直接写入,离子注入掩膜图案化的分辨率,掩膜能力和通量
机译:使用无掩膜曝光系统的灰度光刻
机译:无掩膜,无阻离子束光刻工艺。
机译:采用奇数表面等离子体激元模式的大面积深亚波长干涉光刻
机译:无掩膜,无阻离子束光刻
机译:使用表面等离子体增强照明的无掩模光刻
机译:干涉法和无掩膜曝光装置的光刻设备及器件制造方法
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