公开/公告号CN113574628A
专利类型发明专利
公开/公告日2021-10-29
原文格式PDF
申请/专利权人 朗姆研究公司;
申请/专利号CN202080021021.5
申请日2020-03-06
分类号H01J37/32(20060101);H01L21/3065(20060101);
代理机构31263 上海胜康律师事务所;
代理人樊英如;张静
地址 美国加利福尼亚州
入库时间 2023-06-19 13:02:24
机译: 使用Yu脉冲等离子体蚀刻,沉积和交替进行高深宽比SOI结构的无缺口蚀刻
机译: 适用于蚀刻高深宽比结构的蚀刻反应器
机译: 电介质高深宽比特征的等离子体蚀刻化学