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用于高深宽比蚀刻的等离子体蚀刻工具

摘要

利用等离子体蚀刻设备以蚀刻高深宽比特征,该等离子体蚀刻设备可以在使低能量的反应性物质的负离子加速与使高能量的惰性气体物质的正离子加速之间交替进行。该等离子体蚀刻设备可被分成至少两个区域,其将等离子体产生空间与离子化空间分隔开。在等离子体产生空间中点燃等离子体时,可通过离子化空间中的电子附着离子化而产生反应性物质的负离子。在等离子体产生空间中等离子体熄灭时,可通过离子化空间中的潘宁离子化而产生惰性气体物质的正离子。

著录项

  • 公开/公告号CN113574628A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-10-29

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 朗姆研究公司;

    申请/专利号CN202080021021.5

  • 申请日2020-03-06

  • 分类号H01J37/32(20060101);H01L21/3065(20060101);

  • 代理机构31263 上海胜康律师事务所;

  • 代理人樊英如;张静

  • 地址 美国加利福尼亚州

  • 入库时间 2023-06-19 13:02:24

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