机译:用于高深宽比可植入MEMS结构的晶圆级蚀刻技术
HF-HNO_3 wet etching; High aspect ratio; Microelectrodes; Neural interface; Utah electrode array (UEA);
机译:用于高深宽比可植入MEMS结构的晶圆级蚀刻技术
机译:在高纵横比结构中进行薄Si3N4蚀刻时,离子和中性传输的考虑
机译:通过可控的金属辅助化学刻蚀制备具有超高纵横比的双面晶圆级硅纳米线阵列
机译:聚四氟乙烯的热辅助离子束刻蚀-MEMS高深宽比刻蚀的新技术
机译:具有表面电荷的高纵横比结构的湿法蚀刻COMSOL多发性模拟
机译:一种用于高纵横比植入MEMS结构的晶片刻度蚀刻技术
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