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杨楠卓; 欧阳名钊; 周维虎; 陈晓梅;
长春理工大学 光电工程学院 长春 130022;
中国科学院 微电子研究所 北京 100029;
MEMS; 光谱反射技术; 离散傅里叶变换;
机译:基于DRIE工艺的高深宽比微沟槽结构在MEMS器件中的应用
机译:通过超保形化学气相沉积填充高深宽比沟槽:预测模型和实验
机译:具有超高深宽比的亚微米沟槽的深反应离子刻蚀
机译:通过超临界流体薄膜沉积方法制备的低电阻铜薄膜晶种层,可实现高深宽比深沟槽的均匀电镀
机译:高深宽比硬质X射线防区板的制备和表征与超纳米晶金刚石模具。
机译:聚合物系统的冷冻水平。 57.基于血清蛋白质的海绵状宽多孔沟槽:作为肽生物调节剂载体的制备性质和应用
机译:黑硅方法VI:适用于MEMS应用的高深宽比沟槽蚀刻
机译:由反应离子蚀刻定义的低于100nm宽的深沟槽
机译:高深宽比结构的深度测量
机译:两步工艺用非晶硅膜间隙填充高深宽比沟槽
机译:硅外延以实现高深宽比,基本垂直于深硅沟槽
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