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ECR等离子体蚀刻; 多晶硅; 反应生成物; 蚀刻形状;
机译:电感耦合等离子体蚀刻反应器中氯等离子体和多晶硅蚀刻的表征
机译:在基于HBr / O2的高密度等离子体的多晶硅/氧化物蚀刻中,HBr和氧对蚀刻选择性和蚀刻后轮廓的作用的研究
机译:C掺杂基础lnGaAs / InP DHBT结构的ECR等离子体蚀刻制备:CH↓(4)/ H↓(2)/ Ar与BCl↓(3)/ N↓(2)等离子体蚀刻化学的比较
机译:多晶硅蚀刻对含电子回旋共振(ecr)卤化物的等离子体中栅极氧化物的影响
机译:在电子回旋共振(ECR)等离子体反应器中对硅进行六氟化硫蚀刻时的表面反应特性。
机译:基于HBr / O的重掺杂多晶硅反应离子蚀刻的研究
机译:处理开发和表面准备评论。对多晶硅电子回旋谐振等离子体蚀刻的反应产物及轮廓演化研究。
机译:用于监测氯 - 氦等离子体中多晶硅的等离子体蚀刻期间的蚀刻均匀性的光学诊断仪器。
机译:用于在等离子体蚀刻室内蚀刻多晶硅栅极结构的方式,用于在等离子体蚀刻室内部蚀刻多晶硅栅极结构,以及
机译:电子回旋共振(ECR)等离子体蚀刻工艺和ECR等离子体蚀刻设备
机译:电子回旋共振(ECR)等离子体蚀刻和ECR等离子体蚀刻设备
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