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一种平面化圆片级熔融石英MEMS陀螺仪的制作方法

摘要

本发明公开一种平面化圆片级熔融石英MEMS陀螺仪的制作方法,目的是提高MEMS陀螺仪的精度。技术方案是确定加工环境;搭建飞秒激光改性的装置;制作甲片和乙片石英片,对乙片采用飞秒激光改性的装置进行飞秒激光改性、清洗、退火;将乙片和甲片清洗后进行键合,得到丙片;采用湿法将丙片腐蚀出陀螺仪谐振结构;将刻蚀后的丙片烘干后采用飞秒激光划成独立的MEMS谐振器件,筛选掉残次件,对剩下的谐振器件分别进行引线和高真空封装后得到平面化圆片级熔融石英MEMS陀螺仪。本发明将激光改性辅助湿法刻蚀的技术运用到熔融石英平面式MEMS陀螺的批量制作中,实现了品质因数的跨越式提升,极大简化了加工的流程,提高了整体的效率。

著录项

  • 公开/公告号CN113547223A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-10-26

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 中国人民解放军国防科技大学;

    申请/专利号CN202110822965.9

  • 申请日2021-07-21

  • 分类号B23K26/362(20140101);B23K26/402(20140101);B23K26/00(20140101);C23C14/35(20060101);C23C14/18(20060101);C03C15/00(20060101);B81C1/00(20060101);

  • 代理机构43257 湖南企企卫知识产权代理有限公司;

  • 代理人任合明

  • 地址 410073 湖南省长沙市开福区德雅路109号

  • 入库时间 2023-06-19 13:00:48

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-04-22

    授权

    发明专利权授予

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