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基于底部源极金属氧化物半导体场效应管的真实芯片级封装功率金属氧化物半导体场效应管

摘要

一种半导体封装可以包含一个半导体衬底、一个带有形成在衬底上的多个单元的金属氧化物半导体场效应管器件、以及一个和设置在衬底底面上的所有单元共用的源极区。每个单元包含一个在半导体器件顶面上的漏极区、一个用于控制源极和漏极区之间电流流量的栅极、一个邻近栅极的源极接触点,以及源极接触点和源极区之间的电接触。至少一个漏极接触点电耦合到漏极区域上。源极、漏极和栅极垫分别电连接到器件的源极区、漏极区和栅极。漏极、源极和栅极垫形成在半导体封装的一个表面上。单元通过衬底分布,因此每个器件的源极接触点和源极区之间的电连接分布也通过衬底。本发明允许在晶片等级上进行处理,降低成本和缩小独立器件的尺度,并使接触点遍及晶粒,降低电子干扰和阻抗。

著录项

  • 公开/公告号CN101771049A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2010-07-07

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 万国半导体有限公司;

    申请/专利号CN200910266257.0

  • 发明设计人 弗兰茨娃·赫尔伯特;

    申请日2009-12-24

  • 分类号H01L27/088(20060101);H01L23/482(20060101);H01L23/52(20060101);H01L21/8234(20060101);H01L21/60(20060101);H01L21/768(20060101);

  • 代理机构上海信好专利代理事务所(普通合伙);

  • 代理人姜玉芳;徐雯琼

  • 地址 美国加利福尼亚桑尼维尔水星街495号

  • 入库时间 2023-12-18 00:10:00

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-01-03

    专利权质押合同登记的生效 IPC(主分类):H01L27/088 登记号:Y2019500000007 登记生效日:20191210 出质人:重庆万国半导体科技有限公司 质权人:国家开发银行重庆市分行 发明名称:基于底部源极场效应管的真实芯片级封装功率场效应管 授权公告日:20120425 申请日:20091224

    专利权质押合同登记的生效、变更及注销

  • 2017-08-08

    专利权的转移 IPC(主分类):H01L27/088 登记生效日:20170719 变更前: 变更后: 申请日:20091224

    专利申请权、专利权的转移

  • 2017-08-08

    专利权人的姓名或者名称、地址的变更 IPC(主分类):H01L27/088 变更前: 变更后: 申请日:20091224

    专利权人的姓名或者名称、地址的变更

  • 2017-07-14

    专利权人的姓名或者名称、地址的变更 IPC(主分类):H01L27/088 变更前: 变更后: 申请日:20091224

    专利权人的姓名或者名称、地址的变更

  • 2012-04-25

    授权

    授权

  • 2010-09-15

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L27/088 申请日:20091224

    实质审查的生效

  • 2010-07-07

    公开

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