光致抗蚀剂去除机台以及光致抗蚀剂去除工艺

摘要

本发明提供一种光致抗蚀剂去除机台以及光致抗蚀剂去除工艺，光致抗蚀剂去除机台包括加热器、晶圆载具、马达以及高度控制单元。晶圆载具供晶圆相对于加热器作垂直位移，马达分别与晶圆载具以及高度控制单元电性连接，利用高度控制单元控制晶圆停留于至少三个位置，而光致抗蚀剂去除工艺的步骤包括：使得晶圆进入光致抗蚀剂去除机台时，借助晶圆载具使得晶圆位于承载位置；移动晶圆载具，使得晶圆移动至降温位置；移动晶圆载具，使得晶圆移动至工艺位置。本发明能够避免晶圆过热而导致光致抗蚀剂爆裂，由此提升工艺合格率。