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任桂珍;
四川省绵阳市灵通电气技工学校;
液态光致抗蚀剂; 图形转移工艺; 印刷电路板;
机译:聚硅氮烷在深紫外真空光刻图形转移工艺中蚀刻掩模中的应用
机译:光致抗蚀剂的光致抗蚀剂分散在DUV,VUV,EUV和BEUV辐照上的光致抗蚀剂
机译:材料和工艺参数对正音,聚醛光致抗蚀剂干发育的影响
机译:JSR THB-151N负紫外光致抗蚀剂的开放式传感包装应用的厚光致抗蚀剂工艺
机译:EUV光致抗蚀剂暴露的二次电子相互作用
机译:无电解液液态金属频率可重新配置天线的设计和制造工艺
机译:碳钢的液态金属脆化研究(报告1):液态金属的渗透行为(焊接物理,工艺和仪器)
机译:技术图形转移使用国际TechneGroup Incorporated的数据:mIL-D-28003(CGm)。快速短测试报告
机译:制备用于形成磁盘视频母盘的玻璃基板的方法,光阻层的施加方法,用于选择最佳工艺的峰值强度以露出被膜的光致抗蚀剂层的工艺的强度选择方法以及用于形成光致抗蚀剂的工艺版画家
机译:光敏性分子化合物和光致抗蚀剂组合物,其特征在于可以改善光刻工艺的分辨率和光致抗蚀剂膜的均匀性
机译:形成浸没光刻工艺的光致抗蚀剂图案的方法,能够通过调节浸没溶液的酸度来提高光致抗蚀剂图案的可靠性
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