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宋奖利;
中国电子学会;
液态感光至抗蚀; 工艺; 曝光; 显影;
机译:聚硅氮烷在深紫外真空光刻图形转移工艺中蚀刻掩模中的应用
机译:针对ULSI应用的未来光刻工艺中的抗蚀剂和工艺实施问题
机译:将EUV光刻技术应用于2X DRAM及其以后的工艺,IC制造商的EUV抗蚀剂现状和工艺开发
机译:非感光聚酰亚胺集成到现有的交叉光致抗蚀剂工艺中
机译:光刻中抗蚀剂工艺的建模和校准。
机译:液态和固态Cl敏感微电极。 Balanus感光器细胞内Cl活性的特征及其应用
机译:浅谈触觉摇摆提示在提高人均失衡人员平衡中的可行性和优化应用
机译:用于与具有相同抗蚀剂图案基板的抗蚀剂图案一起生产抗蚀剂图案的光敏元件感光元件辊压工艺,以及用于制造布线图案和布线图案的上覆抗蚀剂图案工艺
机译:干膜抗蚀剂,用于在感光层和保护膜上同时应用曝光和显影工艺,制造相同方法的方法以及使用相同方法制造LCD的方法
机译:感光性树脂成分,使用该感光性树脂成分的感光性元件,抗蚀剂图案,抗蚀剂图案和抗蚀剂图案积层基板的制造方法
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