机译:通过同时去除边缘珠和气泡来制造均匀的SU-8厚光致抗蚀剂结构的新工艺
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机译:厚SU-8光刻胶和湿法刻蚀制造波纹状长周期光纤光栅的新方法
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机译:使用SOL-GEL技术和SU-8光刻胶制备高纵横比的PZT厚膜结构
机译:使用掩埋的光刻胶掩模方法制造多层,独立式,SU-8结构
机译:SU-8厚光刻胶紫外光刻工艺的综合模拟
机译:用于实现微机枪的过程技术。 Liga喜欢使用SU-8作为厚的光致抗蚀剂的过程。
机译:用于交叉电容器结构制作的厚负光刻胶的优化。