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GaN单晶的制造方法、GaN薄膜模板衬底及GaN单晶生长装置

摘要

提供即使利用氢化物气相生长法时也可以准确地控制GaN单晶的膜厚的GaN单晶的制造方法、适于特性良好的GaN厚膜生长的GaN薄膜模板衬底以及GaN单晶生长装置。在通过对在规定的温度下加热熔融的Ga(镓)喷HCl(氯化氢)生成GaCl(氯化镓),使该GaCl(氯化镓)与氢化物气体的NH

著录项

  • 公开/公告号CN101517134A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2009-08-26

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 日矿金属株式会社;

    申请/专利号CN200780034925.6

  • 发明设计人 森冈理;高草木操;清水孝幸;

    申请日2007-09-14

  • 分类号C30B29/38;C23C16/34;C30B25/14;H01L21/205;

  • 代理机构中国专利代理(香港)有限公司;

  • 代理人熊玉兰

  • 地址 日本东京都

  • 入库时间 2023-12-17 22:31:46

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2013-05-08

    发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):C30B29/38 申请公布日:20090826 申请日:20070914

    发明专利申请公布后的视为撤回

  • 2009-10-21

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2009-08-26

    公开

    公开

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