首页> 中国专利> 改进的部分耗尽绝缘体上硅静态随机存储器存储单元

改进的部分耗尽绝缘体上硅静态随机存储器存储单元

摘要

本发明一种改进的形成于部分耗尽SOI衬底上的静态随机存储器的存储单元,涉及静态随机存储器技术,该SRAM单元包含六只晶体管,即第一、第二存取NMOS晶体管,第一、第二驱动NMOS晶体管,第一、第二负载PMOS晶体管。在进行体区接触处理时,不再采用T型栅技术,存取NMOS管采用H型栅体接触,负载PMOS管和驱动NMOS采用BTS-A型栅体接触。这样不仅能避免部分耗尽SOI材料带来的浮体效应,而且可以抑制由于T型栅结构引起的岛边漏电。单元中两组反相器的连线在单元中部进行,布线得到简化,单元面积缩小。本发明的存储单元提升了芯片的最终性能。

著录项

  • 公开/公告号CN101442055A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2009-05-27

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 中国科学院半导体研究所;

    申请/专利号CN200710177788.3

  • 发明设计人 赵凯;刘忠立;于芳;

    申请日2007-11-21

  • 分类号H01L27/12;H01L23/528;

  • 代理机构中科专利商标代理有限责任公司;

  • 代理人周国城

  • 地址 100083 北京市海淀区清华东路甲35号

  • 入库时间 2023-12-17 21:57:44

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2011-01-05

    发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):H01L27/12 公开日:20090527 申请日:20071121

    发明专利申请公布后的视为撤回

  • 2009-07-22

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2009-05-27

    公开

    公开

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