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GaN晶体的生长方法及GaN晶体衬底

摘要

GaN晶体的生长方法及GaN晶体衬底。在此公开一种制造GaN晶体的方法,其涉及在GaN籽晶衬底上生长GaN晶体。该方法包括以下步骤:制备GaN籽晶衬底,该GaN籽晶衬底包括第一掺杂剂以使GaN籽晶衬底的热膨胀系数变得大于GaN晶体的热膨胀系数;以及在该GaN籽晶衬底上生长GaN晶体至少1mm的厚度。因此,可以提供一种制造GaN晶体的方法以及一种GaN晶体衬底,该方法可以抑制裂纹的产生并生长厚的GaN晶体。

著录项

  • 公开/公告号CN101319402A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2008-12-10

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 住友电气工业株式会社;

    申请/专利号CN200810109546.5

  • 申请日2008-06-02

  • 分类号C30B29/38;C30B25/20;

  • 代理机构中原信达知识产权代理有限责任公司;

  • 代理人梁晓广

  • 地址 日本大阪府大阪市

  • 入库时间 2023-12-17 21:10:54

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2012-05-16

    发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):C30B29/38 公开日:20081210 申请日:20080602

    发明专利申请公布后的视为撤回

  • 2009-10-14

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2008-12-10

    公开

    公开

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