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姚尧; 贺致远; 李佳林; 刘扬;
中山大学,物理科学与工程技术学院,广东广州510275;
场效应晶体管; 功率开关; 栅宽; 欧姆接触电极厚度;
机译:Si衬底上的AlGaN / GaN单异质结构和AlGaN / GaN / AlGaN双异质结构场效应晶体管的材料生长和器件表征
机译:外延层质量对Si衬底上GaN / AlGaN / GaN异质结构场效应晶体管可靠性的影响
机译:Si衬底上的20mΩ,750 V大功率AlGaN / GaN异质结构场效应晶体管
机译:用于功率开关应用的Si衬底上的高功率AlGaN / GaN HFET
机译:AlGaN / GaN异质结场效应晶体管的性能和可靠性建模。
机译:使用低Al组成的单个AlGaN层在Si衬底上生长高质量和均匀的AlGaN / GaN异质结构
机译:用于抑制AlGaN / GaN异质结构场效应晶体管中栅极漏电流的AlGaN表面控制工艺
机译:m面alGaN / GaN和alInN / GaN异质结构的外延生长适用于常驻型GaN基板上的常关模式高功率场效应晶体管
机译:使用InAlN和AlGaN双层封盖堆叠的Si衬底上的低薄层电阻GaN沟道
机译:使用INALN和Algan双层覆盖层的SI衬底上的低抗剪GAN通道
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