首页> 中国专利> 具有膜面保护层的光掩模原版、其制造方法及光掩模原版用的保护层形成液

具有膜面保护层的光掩模原版、其制造方法及光掩模原版用的保护层形成液

摘要

本发明的目的是通过在以从前的制作方法所制作的乳胶掩模的乳剂层之上形成第2层保护层,而提供克服了容易损坏、或膜面容易脏污的缺点,同时防止如层积板保护膜那样降低紫外线通过率,而价廉且具有耐久性的光掩模、其制作方法及光掩模原版用的保护层形成液。光掩模的构成特征是在基板上形成乳化感光乳剂层的膜面(乳胶光掩模)而成的光掩模原版的乳化感光乳剂层的膜面上,涂布保护层形成液,使保护层形成液老化后层积形成膜面保护层,所述的保护层形成液是以在氟化树脂与丙烯酸树脂的混合树脂中调合乙酸正丁酯、甲基乙基酮(MEK)和甲基异丁基酮(MIBK)的混合溶剂而成的2液交联型防污性表面涂层剂为主剂,在此主剂中调合混合由聚异氰酸酯预聚物与乙酸乙酯混合而成的交联硬化剂,及由乙酸正丁酯、甲基乙基酮(MEK)和乙二醇单乙醚乙酸酯所构成的稀释剂而成的。

著录项

  • 公开/公告号CN1375077A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2002-10-16

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 株式会社进映社;

    申请/专利号CN99816953.6

  • 发明设计人 藤冈秋夫;

    申请日1999-10-20

  • 分类号G03F1/14;G03C1/76;

  • 代理机构中原信达知识产权代理有限责任公司;

  • 代理人王维玉

  • 地址 日本东京都

  • 入库时间 2023-12-17 14:27:51

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2006-03-15

    专利权的视为放弃

    专利权的视为放弃

  • 2003-01-01

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2002-10-16

    公开

    公开

  • 2002-09-25

    实质审查的生效

    实质审查的生效

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