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光刻机照度均匀性补偿方法及装置、照明系统及光刻机

摘要

本发明提供了一种光刻机照度均匀性补偿方法及装置、照明系统及光刻机,通过采集一定时间内光刻机的基板面上的照度分布数据,以在光刻机生命周期内不同阶段下,将对应阶段的补偿区设置于曝光光路的补偿面上,对入射至基板面的光强进行补偿,使光刻机在其生命周期内的照度均匀性满足控制要求,通过增加补偿工位,实现对照明系统整个生命周期内的照度均匀性进行预补偿,在实现均匀补偿的同时,延长均匀补偿的生命周期,以降低成本、提高可靠性、降低了制造成本及技术难度,并且,由于所述补偿板是通过绕中心轴旋转以切换补偿工位的,减少可动机构,优化了控制策略。

著录项

  • 公开/公告号CN110658689A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-01-07

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 上海微电子装备(集团)股份有限公司;

    申请/专利号CN201810720773.5

  • 发明设计人 钱俊;湛宾洲;

    申请日2018-06-29

  • 分类号G03F7/20(20060101);

  • 代理机构31295 上海思捷知识产权代理有限公司;

  • 代理人王宏婧

  • 地址 201203 上海市浦东新区张东路1525号

  • 入库时间 2023-12-17 06:09:10

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-02-04

    实质审查的生效 IPC(主分类):G03F7/20 申请日:20180629

    实质审查的生效

  • 2020-01-07

    公开

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