公开/公告号CN110658689A
专利类型发明专利
公开/公告日2020-01-07
原文格式PDF
申请/专利权人 上海微电子装备(集团)股份有限公司;
申请/专利号CN201810720773.5
申请日2018-06-29
分类号G03F7/20(20060101);
代理机构31295 上海思捷知识产权代理有限公司;
代理人王宏婧
地址 201203 上海市浦东新区张东路1525号
入库时间 2023-12-17 06:09:10
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2020-02-04
实质审查的生效 IPC(主分类):G03F7/20 申请日:20180629
实质审查的生效
2020-01-07
公开
公开
机译: 光刻机亮度均匀性补偿方法及装置,照明系统及光刻机
机译: 光刻机和用于补偿光刻机的支撑框架的表面轮廓的方法
机译: 光刻机和用于补偿光刻机的支撑框架的表面轮廓的方法