光刻版设计方法及光刻工艺中不同光刻机的匹配方法

摘要

本发明提供了一种光刻版设计方法及光刻工艺中不同光刻机的匹配方法，根据同一产品的图形层次以及空闲的不同类型光刻机的数量确定每一图形层次光刻工艺所使用的光刻机，其中，用于第一类光刻机的光刻版版图由整数倍的用于第二类光刻机的光刻版版图组成，所述第一类光刻机的曝光视场大于所述第二类光刻机的曝光视场。如此，可以在同一产品的光刻工艺中采用多种型号的光刻机，并且仍然可实现产品图形的对准，在不牺牲第一类光刻机效率的前提下，兼容第二类光刻机的效率，充分发挥在线各类型光刻机的产能。