Nikon 步进光刻机光刻工艺参数的优化

摘要

光刻工艺由于工序繁多，涉及复杂的光化学反应和物理过程，所以优化工艺参数比较困难。本文基于NIKON公司的NSR2005i9c步进式光刻机进行了一系列实验，对影响亚微米光刻图形效果的涂胶、前烘、曝光、后烘、显影、硬烘等工艺过程的各种因素进行了分析，得到了优化的工艺参数，提高了光刻工艺水平。