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Nikon步进重复光刻机的对位机制

     
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摘要

具体探讨了Nikon步进重复光刻机掩膜版和硅片的对位过程及硅片对位结果的检测方法.分析了硅片对位过程中产生的对偏现象,用EGA算法对对偏进行计算和补偿,同时探讨了对偏产生的原因及对应的处理方法,给掩膜-硅片的对位过程中出现的问题提供了解决方案.

著录项

  • 来源
    《微处理机》|2009年第6期|1-3,7|共4页
  • 作者

    陈德鹅; 吴志明; 王军; 袁凯; 何峰; 蒋亚东;

  • 作者单位

    电子科技大学光电信息学院电子薄膜与集成器件国家重点实验室,成都610054;

    电子科技大学光电信息学院电子薄膜与集成器件国家重点实验室,成都610054;

    电子科技大学光电信息学院电子薄膜与集成器件国家重点实验室,成都610054;

    电子科技大学光电信息学院电子薄膜与集成器件国家重点实验室,成都610054;

    电子科技大学光电信息学院电子薄膜与集成器件国家重点实验室,成都610054;

    电子科技大学光电信息学院电子薄膜与集成器件国家重点实验室,成都610054;

  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 chi
  • 中图分类 光刻、掩膜;
  • 关键词

    光刻; 硅片对位; 对偏; 算法;

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