用于步进式重复曝光光刻机的镜头结构及光刻机

摘要

本发明属于半导体制造技术领域，尤其是一种用于步进式重复曝光光刻机的镜头结构设计，镜头结构包括投影镜头，以及设置在所述投影镜头外侧的温控装置，该温控装置包括温度测定单元以及温度调节单元，其中温度测定单元测得投影镜头圆周方向的温度差，当温度差大于预定值时，启动温度调节单元，使得沿着投影镜头圆周方向的温度差减小。本发明通过在投影镜头的周边安装的温控装置，当发生镜头受热不均匀时，通过温度调节，实现不同区域内的温度均匀性，进而实现步进式重复曝光光刻机镜头均匀受热，从而减少镜头热学形变，提高了工艺套准精度。