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通过使用源极和漏极中的III-V 族半导体中间层来减小N 沟道晶体管的接触电阻的方法

摘要

主要提出了一种通过使用源极和漏极中的III-V族半导体中间层来减小N沟道晶体管的接触电阻的方法。在这方面,介绍了一种器件,其包括:N型晶体管,具有源极区域和漏极区域;第一层间电介质层,邻近所述晶体管;沟槽,穿过所述第一层间电介质层至所述源极区域;以及所述沟槽中的导电的源极接触部,所述源极接触部通过III-V族半导体中间层而与所述源极区域分隔开。也公开且要求保护了其它的实施例。

著录项

  • 公开/公告号CN103299427A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2013-09-11

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 英特尔公司;

    申请/专利号CN201180063345.6

  • 申请日2011-12-20

  • 分类号H01L29/78;H01L21/336;

  • 代理机构永新专利商标代理有限公司;

  • 代理人陈松涛

  • 地址 美国加利福尼亚

  • 入库时间 2024-02-19 21:31:47

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2016-03-16

    授权

    授权

  • 2013-10-16

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L29/78 申请日:20111220

    实质审查的生效

  • 2013-09-11

    公开

    公开

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