机译:通过使用SF_6和Xe气体进行深度反应离子刻蚀来进行光滑的玻璃表面刻蚀
机译:原子力显微镜研究KOH中Si [100]的各向异性刻蚀中超声表面修饰的AFM研究
机译:在Cl 2 / BCl 3 电感耦合等离子体中添加气体对ITO薄膜进行干法刻蚀
机译:使用ICP-RIE在不含有机气体的不含硅的样品架上进行GaSb(001)干蚀刻研究
机译:用于二氧化钛/水系统的ReaxFF反作用力场的开发及其在蚀刻,具有有机溶剂的纳米颗粒以及纳米晶体表面上的离子吸附中的应用。
机译:用于光伏应用的硅表面的等离子体纳米纹理化:初始表面光洁度对形貌和光学性质演变的影响
机译:气体在表面整理技术中的应用。危险气体污染设备的维护和处理。
机译:电感耦合等离子体(ICp)干蚀刻中三氯化硼/氯气体分子外延生长p型氮化铝镓的刻蚀特性及表面分析