机译:干法刻蚀层序列,用于各向异性刻蚀含铝基板,方法是在包含卤素的气体等离子中刻蚀第四层,并在包含卤素和氮的气体中等离子体刻蚀第三层
公开/公告号DE102004022402A1
专利类型
公开/公告日2005-12-15
原文格式PDF
申请/专利权人 INFINEON TECHNOLOGIES AG;
申请/专利号DE20041022402
发明设计人 BACHMANN JENS;
申请日2004-05-06
分类号H01L21/3213;H01L21/768;
国家 DE
入库时间 2022-08-21 21:20:56