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用于除去在合成气中包含的含硫、含氮和含卤素杂质的方法

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摘要

用于除去在合成气中包含的含硫、含氮和含卤素杂质的方法。本发明涉及用于最终除去在合成气中包含的含硫、含氮和含卤素杂质的方法，所述方法包括：a)用于水解所述气体中含有的COS和HCN以及用于收集含卤素化合物的联合步骤，其中使用TiO

公开/公告号CN106139849A

专利类型发明专利
公开/公告日2016-11-23

原文格式PDF
申请/专利权人 IFP新能源公司;
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申请/专利号CN201610669237.8
发明设计人 D.希什;N.布代;J-C.维吉耶;M-A.莱利亚;O.迪克勒;
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申请日2009-12-03
分类号B01D53/75;B01D53/86;B01D53/78;B01D53/02;B01D53/48;B01D53/54;B01D53/68;C10K1/34;C10K1/08;C10K1/32;
代理机构中国专利代理(香港)有限公司;
代理人周齐宏
地址法国吕埃-马迈松
入库时间 2023-06-19 00:57:41

1. 用于除去在合成气中包含的含硫、含氮和含卤素杂质的方法 [P] . 中国专利： CN106139849A . 2016-11-23
2. 用于除去在合成气中包含的含硫、含氮和含卤素杂质的方法 [P] . 中国专利： CN102271788A . 2011-12-07
3. Process for removing sulphur-containing, nitrogen-containing and halogen-containing impurities contained in a synthesis gas [P] . 美国专利： US8617501B2 . 2013-12-31

机译：去除合成气中所含的含硫，含氮和含卤素的杂质的方法
4. Process for removing sulphur-containing, nitrogen-containing and halogen-containing impurities contained in a synthesis gas [P] . 美国专利： US2012010306A1 . 2012-01-12

机译：去除合成气中所含的含硫，含氮和含卤素的杂质的方法
5. METHOD FOR REMOVING SULFUR, NITROGEN, AND HALOGEN-CONTAINING IMPURITES PRESENT IN SYNTHESIS GAS [P] . 俄罗斯专利： RU2011133837A . 2013-02-20

机译：去除合成气中存在的硫，氮和含卤素杂质的方法