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Anisotropic fluorocarbon plasma etching of silicon/silicon germanide heterostructures and plasma etching-induced sidewall damage

机译：硅/硅锗化物异质结构的各向异性碳氟化合物等离子体刻蚀和等离子体刻蚀引起的侧壁损伤

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作者
Ding, Ruhang;
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作者单位

The University of Wisconsin - Madison;

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授予单位 The University of Wisconsin - Madison;
学科
学位 Ph.D.
年度 2008
页码 125 p.
总页数 125
原文格式 PDF
正文语种 eng
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