Palladium alloys; Gold alloys; Silicon alloys; Sputtering; Chemical composition; Thermal properties; Reprints;
机译:沉积磁场对梯度成分溅射法制备的FeCoZr薄膜磁性能及其异常热行为的影响
机译:氮氧化钛锡锡涂层的反应磁控溅射沉积:基板偏置电压对结构,组成和性能的影响
机译:结合深度X射线光电子能谱和飞行时间二次离子质谱研究沉积压力和衬底偏压对磁控溅射生长的Ga掺杂ZnO薄膜的电性能和组成的影响
机译:作用和沉积速率依赖RF溅射Ni-Fe膜的RF底物偏压
机译:偏置溅射法生长铜-铬亚稳合金:基体偏置和合金组成对溶解度和形态的影响。
机译:镧的非反应性溅射沉积和氮化镧的反应性溅射沉积过程中结构形成的原位和实时监测
机译:成分和沉积速率依赖于RF溅射Ni-Fe薄膜的RF衬底偏压
机译:偏压溅射沉积过渡金属/稀土薄膜的非均匀生长