Photolithography; Transistors; Backscattering; Coherence; Contamination; Control; Damage; Electric reactors; Electronic equipment; Electronics; High rate; Quantum electronics; Precision; Reprints; Substrates; Throughput; Topography; X rays;
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机译:低于100 nm的磁性隧道结器件的新型金属化工艺
机译:亚100 nm以下垂直磁化器件中电场感应的各向异性变化的确定
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机译:确定在100nm以下垂直磁化器件中电场引起的各向异性变化
机译:利用X射线透视制备量子效应器件的间隙控制