机译:由于本地沟道掺杂,增强了垂直100 nm以下MOS器件的器件性能
Molecular beam epitaxy; Metal oxide semiconductor structure; Vertical MOS device;
机译:考虑载流子速度过冲和统计性能波动的低于100 nm MOS器件的新通道工程
机译:通过采用原位掺杂多晶硅通道,将垂直堆叠的无结电荷陷阱闪存设备的编程干扰降至最低
机译:具有Si / Ge超晶格沟道和带间隧穿引起的热电子注入的p沟道电荷陷阱闪存器件的性能增强
机译:具有渐变掺杂通道的垂直亚100 nm nMOSFET的性能增强
机译:体-异质结有机光伏器件的界面研究:对-氧化镍阳极中间层和盐酸处理的掺锡氧化铟阳极的性能影响和增强机理。
机译:作为后CMOS器件基于石墨烯的横向异质结构晶体管表现出比基于石墨烯的垂直晶体管更好的固有性能
机译:埋沟NmOsFET中掺杂浓度对4H-siC CmOs器件电性能的影响