机译:射频磁控溅射氧化钽薄膜的结构和电性能:沉积后退火的影响
Tantalum oxide; Sputtering; Metal-insulator-semiconductor structure; Electrical properties;
机译:射频磁控溅射氧化钽薄膜的结构和电性能:沉积后退火的影响
机译:溅射功率和退火温度对射频磁控溅射技术制备的AI_2O_3:CuO薄膜的结构和光学性能的影响
机译:热退火对射频磁控溅射沉积Al掺杂ZnO薄膜结构,电学和力学性能的影响
机译:沉积退火对RF溅射铪薄膜结构和电性能的影响
机译:研究磁控溅射生产的氧化锌基薄膜的结构,电,光和磁性能。
机译:热退火对通过射频磁控溅射获得的锆掺杂MgXZN1-XO膜性能的影响
机译:氮化钽薄膜的结构和电学性能 采用反应射频磁控溅射法制备