退火对射频磁控溅射氧化锌薄膜性能的影响

摘要

采用射频磁控溅射技术在SiO2／Si上淀积高C轴取向的ZnO薄膜，在氧气和氩气的混合气氛、不同温度（400～900℃）下进行快速热退火处理。利用X-射线衍射（XRD）、原子力显微镜（AFM）、扫描电镜（SEM）和透射电镜（TEM）对薄膜结构、形貌与界面状态性能进行了分析。研究结果表明，ZnO薄膜的晶粒尺寸随着退火温度的升高而增大，衍射峰强度增强，峰位随之偏移；SEM分析显示薄膜呈柱状生长，表现出较好的C轴取向性；TEM分析表明ZnO与下电极Pt是呈共格生长，晶格匹配很好。