Yttrium oxide Gallium nitride Post-deposition annealing Band alignment Conduction band offset;
机译:沉积后退火环境对氮化镓上射频磁控溅射Y_2O_3栅极的化学,结构和电性能的影响
机译:氮气/氧/氮气环境中沉积退火温度对多晶镓氧化膜的影响
机译:氧气环境中的沉积后退火时间对沉积在硅衬底上的Y2O3膜的影响
机译:沉积退火温度对4H-SIC镧氧化铈氧化铈氧化镧的频带对准及电气特性的影响
机译:射频等离子体辅助分子外延生长氮化镓:通过RHEED-TRAXS测定表面化学计量,氮化镓:铍退火以及活性氮种类,表面极性和过量的镓超压对高温极限的影响。
机译:后退火处理对原子层沉积制备的AlN / Si结构的界面化学性质和能带排列的影响
机译:沉积后退火环境对氮化镓上射频磁控溅射YO薄膜能带取向的影响