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机译:氮气/氧/氮气环境中沉积退火温度对多晶镓氧化膜的影响
Univ Sains Malaysia Inst Nano Optoelect Res & Technol INOR George Town 11800 Malaysia;
Univ Sains Malaysia Inst Nano Optoelect Res & Technol INOR George Town 11800 Malaysia;
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Ga2O3; Polycrystalline; Semiconducting; Passivating; Nitrogen/oxygen/nitrogen;
机译:氮气和氧气退火对脉冲激光沉积生长铝 - 镓氧化膜性能的影响
机译:通过室温沉积和沉积后退火在柔性基板上获得最高透射率和高迁移率的非晶铟镓锌氧化物薄膜
机译:纳米结构ZnO:Sn锡膜在氮环境中不同温度退火的低掺杂效应,可用作抗反射涂层(ARC)|科学出版物
机译:退火温度对氮掺杂氧化锌(ZnO:N)纳米膜形貌和结晶度的影响
机译:射频等离子体辅助分子外延生长氮化镓:通过RHEED-TRAXS测定表面化学计量,氮化镓:铍退火以及活性氮种类,表面极性和过量的镓超压对高温极限的影响。
机译:沉积后退火环境对氮化镓上射频磁控溅射Y2O3薄膜能带取向的影响
机译:沉积后退火环境对氮化镓上射频磁控溅射YO薄膜能带取向的影响
机译:钚-1wt%镓在94.5%氮/5.5%氧气氛中的高温氧化