机译:热退火对射频磁控溅射沉积Al掺杂ZnO薄膜结构,电学和力学性能的影响
Department of Materials Science and Engineering, I-Shou University, Kaohsiung 840, Taiwan;
Department of Materials Science and Engineering, I-Shou University, Kaohsiung 840, Taiwan;
Department of Mechanical Engineering, Yuan Ze University, Chung-Li 320, Taiwan;
AZO thin films; XRD; AFM; hall; nanoindentation; hardness;
机译:后退火对射频磁控溅射沉积在玻璃基板上的掺镓ZnO薄膜的结构和纳米力学性能的影响
机译:原位退火对射频磁控溅射沉积铝掺杂ZnO薄膜性能的影响
机译:高能离子轰击对射频叠加直流磁控溅射沉积铝掺杂ZnO薄膜结构和电性能的影响
机译:厚度对RF磁控溅射沉积的铝掺杂ZnO膜结构,电和光学性质的影响
机译:溅射沉积的氮化物和氧化物超晶格薄膜的结构,力学性能和热性能
机译:在不加热衬底的情况下通过射频磁控等离子体溅射沉积的铝掺杂氧化锌薄膜的空间分辨光电性能
机译:射频磁控溅射在石英衬底上室温沉积Al掺杂ZnO膜及其热退火效应