机译:偏取向对三氟化氯气体蚀刻产生的C面(0001)4H-SiC表面形态的影响
机译:三氟化氯气体刻蚀产生的偏取向对C面(0001)4H-SiC表面形态的影响
机译:偏取向对三氟化氯气体蚀刻产生的C面(0001)4H-SiC表面形态的影响
机译:C面4H-SiC晶片的蚀刻速率曲线,取决于三氟化氯的总气体流速和氮气
机译:通过使用氯三氟化物气体蚀刻产生的C形面(0001)4H-SiC表面形态的脱型影响
机译:在感应耦合等离子体反应器中研究碳氟化合物沉积和蚀刻对硅和二氧化硅蚀刻工艺的影响(使用三氟化甲基),并开发了用于研究等离子体与表面相互作用机理的反应离子束系统。
机译:影响3C夹杂物发生的因素的调查用于轴上的轴C面4H-SIC外延层
机译:用于保护石英玻璃表面的氧化钇膜通过在室温下长期暴露于氯三氟化氯气中的蚀刻