机译:由于前表面污染物颗粒上的菲涅耳衍射,对355 nm石英光学元件的后表面激光损伤
机译:由于前表面污染物颗粒上的菲涅耳衍射,对355 nm石英光学元件的后表面激光损伤
机译:355 nm二氧化硅光学器件中的赫兹圆锥形裂纹引起的后表面光增强
机译:关于抛光引起的熔融石英光学元件污染对351 nm激光诱导的损伤密度的影响
机译:激光诱导的熔融石英对高功率激光的损害:光束强度调制,光学缺陷,污染
机译:短脉冲自由电子激光的散射效应和噪声(雾化,量子光学,屈光度,非线性)。
机译:反应离子刻蚀过程中紫外激光损伤对熔融石英光学器件中污染物浓度的影响
机译:储存引起的除气有机污染物对351 nm石英光学元件的激光诱导损伤的影响
机译:激光诱导的熔融石英在355和1065 nm处的损坏始于表面上的铝污染颗粒