EUVリソグラフィ技術の発展とその最新技術開発動向

摘要

光リソグラフイ技術の限界を突破する技術として、EUVリソグラフィ技術の実用化に期待が集まっている。課題は光源の高出力·高信頼度化、マスクの欠陥低減、レジストの高性能化などである。本技術の開発の経緯と、それぞれの技術課題の開発状況を報告する。